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CVD法 氧化硅基底单层石墨烯薄膜

编号:BKJCGRFSIO
CAS号:
价格: ¥2640
货号:BKJCGRFSIO-08
规格:

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详细介绍

 


产品名称:CVD法 氧化硅基底单层石墨烯薄膜


产品性质


薄膜颜色:无色透明


产品牌号: JCGRFSIO

方阻:单层A 300-600 Ω/□ 单层B 700-1500 Ω/□ 少层 500-1200Ω/□



石墨烯薄膜的层数为单层或少层(小于10层)。该薄膜完性高,单层覆盖率高,导电性好,迁移率可达~6000cm2/vs

石墨烯转移至氧化硅片上,客户也可以自己提供氧化硅片,我们转移。


氧化硅参数:


类型:P型重掺杂(R:3×10-3Ωcm)


厚度:525±20μm


氧化层厚度:300nm


最大可做 7cm*7cm(可内接4英寸氧化硅基底或满转)



本产品应密封保存于干燥环境中,且温度低于35℃。严禁与易挥发物质和污染源接触。远离火源。

备注:A级单层覆盖率大于97% B级单层覆盖率大于85%,少层石墨烯厚度在10 以内,可提供定制服务







温馨提示:北京北科新材科技有限供应产品仅用于科研,不能用于人体。网站图片源自互联网,图片仅供参考,请以实物为准,如有侵权请联系我们立即删除。产品参数仅供参考,请以实际值为准!

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