Material testing and consumables Material testing and consumables> Monocrystalline silicon substrate

产品:4 inch silicon dioxide wafer1

Detailed

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size

polishing

Model crystal orientation

specification

Resistivity Ω · cm

Wafer thickness

Oxide layer thickness / nm

4

Silica

P

Monooxygen

0.001-0.005

500

20

4

Silica

P

Monooxygen

1--10

500

50

4

Silica

P

Monooxygen

0.001--0.005

525

100

4

Silica

P

Monooxygen

1--10

525

100

4

Silica

P

Hydrogen peroxide

1--10

525

100

4

Silica

P

Monooxygen

1--10

525

200

4

Silica

P

Monooxygen

0.001--0.005

525

200

4

Silica

P

Hydrogen peroxide

1--10

500

200

4

Silica

P

Hydrogen peroxide

0.001--0.005

525

200

4

Silica

P

Hydrogen peroxide

1--10

525

200

4

Silica

P

Monooxygen

1--10

500

285

4

Silica

P

Hydrogen peroxide

1--10

525

285

4

Silica

P

Hydrogen peroxide

0.001--0.005

500

285

4

Silica

P

Monooxygen

0.001--0.005

500

285

4

Silica

P

Monooxygen

1--10

500

300

4

Silica

P

Hydrogen peroxide

1--10

525

300

4

Intrinsic oxidation

P

Hydrogen peroxide

> 5000

500

300

4

Silica

P

Hydrogen peroxide

0.001--0.005

500

300

4

Silica

P

Monooxygen

0.001--0.005

500

300

4

Silica

P

Hydrogen peroxide

0.002--0.004

500

300

4

Silica

P

Hydrogen peroxide

1--10

525

500

4

Silica

P

Monooxygen

1--10

525

500

4

Silica

P

Hydrogen peroxide

1--10

500

1000

4

Silica

P

Monooxygen

0.001-0.005

500

1000

4

Silica

P

Hydrogen peroxide

0.01-0.05

500

2000

4

Silica

P

Monooxygen

0.01-0.05

500

2000


Warm tip: the products supplied by Beijing Beike Xincai Technology Co., Ltd. are only used for scientific research, not for human body


Item ID Info
BK2020042504-24 CAS：
ID：BK2020042504
Pack：P<100> 单氧
Parameter：0.001-0.005Ω·cm 500h 20nm
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BK2020042504-25 CAS：
ID：BK2020042504
Pack：P<100> 单氧
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BK2020042504-26 CAS：
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ID：BK2020042504
Pack：P<100> 单氧
Parameter：1--10Ω·cm 525h 100nm
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Pack：P<100> 双氧
Parameter：>5000Ω·cm 500h 300nm
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ID：BK2020042504
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Price：$94
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