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纯度：≥99.5单相
粒度：D50:5~10微米
熔点：1475°C
密度：5.5g/cm3
性状：黑灰色粉末
用途:硅化恪薄膜，玻璃懐膜，硅化恪耙材，硅化恪滅射耙材，n型半母体。
二硅化铬:
二硅化铬在以聚碳硅烷为先驱体裂解制备陶瓷材料中的应用:二硅化铬粉可促进PCS的裂解反应，增大先驱体的陶瓷产率,能降低先驱体在裂解过程中的线性收缩率，提高陶瓷材料性能。硅化铬的主要用途:用作陶瓷材料、高电阻薄膜材料。
硅化铬的产品性质:
硅化铬薄膜电阻率高，电阻温度系数小。灰色立方晶体，六方晶系，熔点接近于1550°C，晶体内的键连形式类似于Cr3Si，有金属光泽，不溶于盐酸、王水。硅化铬薄膜电阻率高，电阻温度系数小。
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