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纯度：≥99.5单相
粒度：D50:5~10微米
熔点：825°C
密度：7.8g/cm3
用途:硅化铜薄膜可用于钝化铜基芯片，抑制其扩散和电子迁移,及作为扩散阻挡层。也可用于工业上直接合成有机硅化合物。在反应中，硅化铜可以使氯代甲烷硅化。
硅化铜(Cu5Si) 又名硅化五铜，是一种铜的二元硅化合物，
为一种金属互化物，这意味着它的性质介于离子化合物和合金之间。具有优良的导电性、导热性、延展性和耐蚀性、耐磨性。硅化铜薄膜可用于钝化铜基芯片，抑制其扩散和电子迁移，及作为扩散阻挡层。
硅化铜也可用于工业.上直接合成有机硅化合物。在反应中，硅化铜
可以使氯代甲烷硅化。例如，可以制得工业上有用的二甲基二氯硅烷。
还可用于硅酸盐电子工业-电真空器件-集成电路-船舶-汽车-轻工业-航天等科技领域!
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