CVD TMDC 二维薄膜/异质结

产品: CVD 二硒化钼:MoSe2 孤立晶粒

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详细介绍

制造方法:

化学气相沉积法, Chemical Vapor Deposition (CVD)

产品简介:

六碳科技的MoSe2薄膜分为多种:
1) 单层离散分布的孤立晶粒,边长一般是几个微米到几十微米。
2) 由孤立晶粒继续长大连在一起的单层连续薄膜,上面有多层区域。
3) 基底:MoSe2可选基底较多,其中SiO2/Si基底为直接沉积产品。其他基底例如:硅片,PET,PI,ITO,FTO,玻璃,金属基底等是通过在SiO2/Si上生长后转移至客户所需基底。

应用领域:

光电器件,微电子器件,生物传感,化学传感等领域。

包装及规格

10*10mm,15*15mm,20*20mm,2英寸圆片,4英寸圆片 或客户指定的定制尺寸。
净化抽真空包装, 1片/盒,5片/盒。10片/盒。




二硒化钼连续膜(含多层区域)










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