CVD TMDC 二维薄膜/异质结

产品: CVD 二硒化钼:MoSe2 孤立晶粒 连续薄膜

数 量:

加入购物车 立即购买

提示说明:纳米材料工艺和制备可能会有改变 所有纳米材料均支持按需定制 下单前联系客服确认产品详细信息。

详细介绍

制造方法:

化学气相沉积法, Chemical Vapor Deposition (CVD)

产品简介:

六碳科技的MoSe2薄膜分为多种:
1) 单层离散分布的孤立晶粒,边长一般是几个微米到几十微米。
2) 由孤立晶粒继续长大连在一起的单层连续薄膜,上面有多层区域。
3) 基底:MoSe2可选基底较多,其中SiO2/Si基底为直接沉积产品。其他基底例如:硅片,PET,PI,ITO,FTO,玻璃,金属基底等是通过在SiO2/Si上生长后转移至客户所需基底。

应用领域:

光电器件,微电子器件,生物传感,化学传感等领域。

包装及规格

10*10mm,15*15mm,20*20mm,2英寸圆片,4英寸圆片 或客户指定的定制尺寸。
净化抽真空包装, 1片/盒,5片/盒。10片/盒。




二硒化钼连续膜(含多层区域)










温馨提示:北京北科新材科技有限供应产品仅用于科研,不能用于人体。部分网站示意图源自互联网,图片仅供参考,请以实际测试结果为准,如有侵权请联系我们立即删除。产品参数仅供参考,请以实际值为准!
  留言咨询

姓名: *
手机: *
邮箱: *
内容:
 
Copyright © 北京北科新材科技有限公司 京ICP备16054715-2号