ACS AMI:2D TiVC MXenes的首次刻蚀
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详细介绍
【研究背景】
MXenes是一类新型的二维材料,因其一些独特的物理化学性质得到了广泛的关注,与其它层状材料不同,如石墨烯层间较弱的范德华力,NAX相之间的化学键是金属键,离子键和共价键的混合。利用MAX相层间不同的键强度,M-A层较弱的金属键,尤其是MAX中A原子层可以被水系含氟溶液刻蚀,形成MXenes,并将MAX的3D结构转换为MXene的2D结构。MXenes已经被广泛地应用于很多领域,其中,储能领域是大多数研究这么关注的重点。MXenes的表面化学,官能团都影响着MXene基电极材料的电化学储能性能。举个例子,=O官能团可以提升储能容量,而-F和-OH官能团会影响电解液离子的浸入进而降低其储能容量。而刻蚀条件被认为是一种影响MXene表面化学的重要方法,然而,除了一项对Ti3C2TxMXenes刻蚀条件对表面官能团的影响外,还没有其他系统的研究在合成过程中如何控制表面官能团。
【成果简介】
最近,美国科罗拉多矿业大学Sanaz Yazdanparast教授在国际知名学术期刊ACS Applied Materials& Interfaces上发表题目为: Synthesis and Surface Chemistry of 2D TiVC Solid-Solution MXenes的研究论文。工作通过两种不同方法(HF 和LiF/HCl)对TiVAlC MAX相进行刻蚀,合成了TiVC固溶MXenes,并探究了其表面官能团。
【图文导读】
图1. TiVAlC MAX相,以及LiF/HCl刻蚀得到的TiVCTx MXene膜的XRD图像。
图2. TiVC MXene的合成过程:湿法刻蚀和分层过程。
图3. TiVAlCMAX相,以及LiF/HCl刻蚀得到的TiVCTx MXene及相应膜的SEM图像。
图4. 通过DFT计算TiVCTx MXene不同官能团的内聚能与吸附能。
图5.通过50%HF和LiF/HCl刻蚀得到的TiVCTxMXene的XPS图谱。
图6. HF刻蚀的TiVCTx MXene的C 1s, F 1s,Ti 2p,V 2p和O 1s的XPS分峰情况。
图7. LiF/HCl刻蚀的TiVCTx MXene C 1s, F1s, Ti 2p,V 2p,O 1s和Cl 2p的XPS分峰情况。
【本文总结】
本文系统的比较了两种刻蚀方法对2D TiVCTx固溶MXenes表面的官能团的影响。大批量的分层与分离可以通过使用TBAOH在室温下处理LiF/HCl 刻蚀后得到的MXene样品,且不需要超声步骤,TiVCTx膜具有更大的层间距,证明水分子和/或TBA+嵌入到MXene层间。基于DFT计算,具有=O基官能团的TiVC MXene具有最稳定的结构,并且与其他官能团相比,=O基官能团在MXene表面具有更强的附着力。EDS和XPS分析表明了用温和的LiF/HCl合成的TiVCTx导致了=O基官能团数量的增减和-F基官能团的减少,相比于通常使用的高浓度HF刻蚀的MXene。XPS研究表面,刻蚀条件对TiVCMXene表面-OH的浓度没有太大影响。LiF/HCl溶液的使用对于合成MXene过程中毒性减少与成本降低有很大的作用,同时对于储能应用来讲具有更有利的表面化学性质。
文献链接:
https://dx.doi.org/10.1021/acsami.0c03181
信息来源:MXene Frontie
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