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BK2022011002
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少层WS2小纳米片冷干粉末 |
| BK2022011002-03 |
500mg向尺寸：20nm-1μm 厚度：1-10层单层~70% |
| BK2022011002-02 |
200mg向尺寸：20nm-1μm 厚度：1-10层单层~70% |
| BK2022011002-01 |
100mg向尺寸：20nm-1μm 厚度：1-10层单层~70% |
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￥540
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BK2022010604
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少层MoS2小纳米片冷干粉末 |
| BK2022010604-03 |
500mg横向尺寸：20nm-1μm 厚度：1-10层单层率~70% |
| BK2022010604-02 |
200mg横向尺寸：20nm-1μm 厚度：1-10层单层率~70% |
| BK2022010604-01 |
100mg横向尺寸：20nm-1μm 厚度：1-10层单层率~70% |
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￥540
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BK2022010603
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单层MoS2小纳米片冷干粉末 |
| BK2022010603-03 |
500mg横向尺寸：20-500nm 单层率≧90% |
| BK2022010603-02 |
200mg横向尺寸：20-500nm 单层率≧90% |
| BK2022010603-01 |
100mg横向尺寸：20-500nm 单层率≧90% |
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￥690
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BK2022010602
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少层MoS2大纳米片冷干粉末 |
| BK2022010602-03 |
500mg度：1-10层单层率：~70% |
| BK2022010602-02 |
200mg度：1-10层单层率：~70% |
| BK2022010602-01 |
100mg度：1-10层单层率：~70% |
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￥490
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BK2022010601
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单层 MoS2大纳米片冷干粉末 |
| BK2022010601-03 |
500mg横向尺寸：0.2-5μm 单层率≧90% |
| BK2022010601-02 |
200mg横向尺寸：0.2-5μm 单层率≧90% |
| BK2022010601-01 |
100mg横向尺寸：0.2-5μm 单层率≧90% |
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￥600
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