5分钟轻松选对产品方案
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为满足科研人员对样品的观测需求，我们采用先进的微电子工艺，设计并制造了专门用于同步辐射线站及扫描电子显微镜（SEM）的标准氮化硅膜窗格。我们的氮化硅膜窗格具有高洁净度，高X-射线透射性，低应力，高强度且膜厚均匀一致的特性，适用于高温（～1000℃）实验以及不同压力环境的测试。目前我们的产品已被全球范围内的科研人员广泛认可且用于其生物、材料、物理、化学等方面的研究。
产品特点
超洁净
100级洁净环境
严格选用硅衬底材料
先进的工艺水平
高强度
薄膜应力<250Mpa
薄膜最薄可至10nm
窗口大小可至2cm
超平整
粗糙度低于0.5nm
均匀性优于5%
理化稳定性优良
耐酸（氢氟酸除外），耐碱，耐有机溶剂
易使用等离子体清洗
X射线透过率高
| 外框项目 | 参数 | 外框项目 | 参数 |
| 材料 | N型硅 | 电阻率 | 1~10Ω-cm |
| 氮化硅膜参数 | 参数 | 氮化硅膜参数 | 参数 |
| 材料 | LPCVD 氮化硅薄膜 | 应力 | <250MPa |
| 介电常数 | 6-7 | 介电强度 | 10（106 V/cm ） |
| 电阻率 | 1016Ω-cm | 粗糙度（Ra) | 0.28±5%nm |
| 折射率@630nm | 2.15-2.17 | 粗糙度(Rms) | 0.40±5%nm |
纳米材料，半导体材料，光学晶体材料，功能薄膜材料
胶体，气凝胶，有机材料和纳米颗粒的表征实验
含碳样品分析（光阻剂，聚合物，食品，油品，燃料等）
此款窗格提供三种不同外框尺寸（5mm，7.5mm，10mm）以供选择，硅衬底厚度均为200μm。
| 产品编号 | 膜厚 | 窗口尺寸 | 外框尺寸 | |
| TE025Z | 10nm | 0.25x0.25mm | 5x5mm |
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| TE050Z | 10nm | 0.5x0.5mm | 5x5mm |
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| TE025Y | 20nm | 0.25x0.25mm | 5x5mm |
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| TE050Y | 20nm | 0.5x0.5mm | 5x5mm |
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| TE025A | 30nm | 0.25x0.25mm | 5x5mm |
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| TE050A | 30nm | 0.5x0.5mm | 5x5mm |
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| TE100A | 30nm | 1x1mm | 5x5mm |
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| TE025B | 50nm | 0.25x0.25mm | 5x5mm |
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| TE050B | 50nm | 0.5x0.5mm | 5x5mm |
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| TE100B | 50nm | 1x1mm | 5x5mm |
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| TE150B | 50nm | 1.5x1.5mm | 5x5mm |
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| TE200B | 50nm | 2x2mm | 5x5mm |
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| TE025C | 100nm | 0.25x0.25mm | 5x5mm |
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| TE050C | 100nm | 0.5x0.5mm | 5x5mm |
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| TE100C | 100nm | 1x1mm | 5x5mm |
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| TE150C | 100nm | 1.5x1.5mm | 5x5mm |
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| TE200C | 100nm | 2x2mm | 5x5mm |
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| TE75050C | 100nm | 0.5x0.5mm | 7.5x7.5mm |
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| TE75200C | 100nm | 2x2mm | 7.5x7.5mm |
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| TE100300C(5pcs) | 100nm | 3x3mm | 10x10mm |
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| TE100500C(5pcs) | 100nm | 5x5mm | 10x10mm |
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| TE010D | 200nm | 0.1x0.1mm | 5x5mm |
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| TE025D | 200nm | 0.25x0.25mm | 5x5mm |
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| TE050D | 200nm | 0.5x0.5mm | 5x5mm |
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| TE100D | 200nm | 1x1mm | 5x5mm |
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| TE150D | 200nm | 1.5x1.5mm | 5x5mm |
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| TE200D | 200nm | 2x2mm | 5x5mm |
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| TE250D | 200nm | 2.5x2.5mm | 5x5mm |
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| 每盒包含10枚芯片（部分产品除外） | ||||
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