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二维材料微纳加工-原位测试
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图片 编号/CAS号 货号 名称/规格 价格

机械剥离单层MoS2 BK2022050908
  机械剥离单层MoS2
BK2022050909-07 UV-VIS吸收光谱原始数据
BK2022050909-06 PL mapping原始数据
BK2022050909-05 PL原始数据
BK2022050909-04 拉曼Mapping原始数据
BK2022050909-03 拉晏原始数据
BK2022050909-02 机械剥离少层材料
BK2022050909-01 机械剥高单层材料
¥1800
机械剥离单层MoSe2 BK2022050907
  机械剥离单层MoSe2
BK2022050907-07 UV-VIS吸收光谱原始数据
BK2022050907-06 PL mapping原始数据
BK2022050907-05 PL原始数据
BK2022050907-04 拉曼Mapping原始数据
BK2022050907-03 拉晏原始数据
BK2022050907-02 机械剥离少层材料
BK2022050907-01 机械剥高单层材料
¥1800
机械剥离单层WSe2 BK2022050906
  机械剥离单层WSe2
BK2022050906-07 UV-VIS吸收光谱原始数据
BK2022050906-06 PL mapping原始数据
BK2022050906-05 PL原始数据
BK2022050906-04 拉曼Mapping原始数据
BK2022050906-03 拉晏原始数据
BK2022050906-02 机械剥离少层材料
BK2022050906-01 机械剥高单层材料
¥1800
机械剥离单层WS2
  机械剥离单层WS2
BK2022050906 1片
¥1800
单层2H MoTe2 FET器件 BK2022050606
  单层2H MoTe2 FET器件
BK2022050606-05 1片装转移曲线原始数据测试
BK2022050606-04 1片装IV原始数据测试
BK2022050606-03 1片装Raman原始数据测试
BK2022050606-02 1片装单层MoTe2 FET
BK2022050606-01 1片装不带电极剥离单层MoTe2
¥1800
镀金坐标硅片 镀金数字标记硅片 BK2021121038
  镀金坐标硅片 镀金数字标记硅片
BK2021121038 300nm氧化层硅片,镀金50nm坐标硅片
¥1500
2英寸氮化镓厚膜晶片(Mg掺杂) BK2020081714
  2英寸氮化镓厚膜晶片(Mg掺杂)
BK2020081714-02 双抛4.5±0.5μm
BK2020081714-01 单抛4.5±0.5μm
¥1080
10×10.5mm2氮化镓自支撑晶片(非掺杂) BK2020081704
  10×10.5mm2氮化镓自支撑晶片(非掺杂)
BK2020081704-09 Double-抛光位错密度:1~5 x 105 cm-2
BK2020081704-08 Double-抛光位错密度:5~9 x 105 cm-2
BK2020081704-07 Double-抛光位错密度:1~3 x 106 cm-2
BK2020081704-06 N-抛光位错密度:1~5 x 105 cm-2
BK2020081704-05 N-抛光位错密度:5~9 x 105 cm-2
BK2020081704-04 N-抛光位错密度:1~3 x 106 cm-2
BK2020081704-03 Ga-抛光位错密度:1~5 x 105 cm-2
BK2020081704-02 Ga-抛光位错密度:5~9 x 105 cm-2
BK2020081704-01 Ga-抛光位错密度:1~3 x 106 cm-2
¥1800
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