ACS Appl. Mater. Interfaces:高质量多层hBN,实现超高抑制比的日盲光电探测
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详细介绍


成果介绍

由于地球上“黑色背景”的独特优点,日盲光电探测器得到了广泛的应用。但是,以前报道的大多数日盲光电探测器都具有相当低的抑制比(R200 nm/R280 nm<103),并且受到280 nm波长以上光的干扰。

有鉴于此,近日,哈尔滨工业大学胡平安教授、Chen Hongyu以及Yang Huihui(共同通讯作者)等通过环境压力化学气相沉积(CVD)方法,在Au箔上合成了不同厚度的大面积、清洁且均匀的二维(2D)多层h-BN薄膜,对超过280 nm的光谱透明并对弱日盲光表现出出色的光学和光电性能。这种灵敏的日盲h-BN光电探测器具有超高的抑制比(R220 nm/R280 nm>103R220 nm/R290 nm>104),低暗电流(102 fA)和大探测率(3.9×1010 Jones)。值得注意的是,此处的抑制比(R220 nm/R290 nm)优于以前基于传统半导体的大多数。这种大规面积、清洁且均匀的多层h-BN薄膜将为下一代光电器件的发展做出贡献。

 

图文导读 

1. 在金箔上生长10分钟,厘米级多层h-BN薄膜的CVD合成。

 

2. 不同厚度h-BN薄膜的AFM图像以及与厚度相关的光吸收。

 

3. 日盲h-BN光电探测器的厚度依赖性光响应。

 

4. 日盲h-BN光电探测器的光电特性。 

 

  

5. 对不同的偏置电压和光强度的灵活光响应。

 

文献信息

Synthesis of High-Quality Multilayer Hexagonal Boron Nitride Films on Au Foils for Ultrahigh Rejection Ratio Solar-Blind Photodetection

(ACS Appl. Mater. Interfaces, 2020, DOI:10.1021/acsami.0c00449)

文献链接:https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsami.0c00449

信息来源: Ripper123  低维 昂维

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